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钝化离子注入平面硅探测器(PIPS)

钝化离子注入平面硅探测器(PIPS)

BNC插座

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BNC插座

      针对α和β带电粒子的探测,钝化离子注入平面硅探测器(PIPS)为新一代性能优异的核探测器。

      PIPS探测器为结型半导体探测器,其制作原理主要为利用加速器产生具有一定能量的正离子束流,使其直接穿透半导体材料(硅)表面而形

成PN结。带电粒子在探测器的耗尽区里发生相互作用产生大量的电子空穴对,它们最初的空间分布取决于射线的种类和能量。随后,在一定时

间内这些电子空穴对被分离和收集,这一时间取决于电子空穴对的几何位置、探测器耗尽区的电场强度和电场的分布以及器件工作温度下的载

流子迁移率。收集时间的不同造成了脉冲上升时间的不同。

       α、β 粒子在探测器中的射程不同,使得电子空穴对分布不同,电荷收集时间也不同,从而探测器最终输出的脉冲形状也不同。

       11474蒙特卡罗可提供各种标准规格及定制其他规格的PIPS探测器,如下:

探测灵敏区面积

mm2

α能量分辨率

keV

β能量分辨率

keV

探测器类型

灵敏区厚度

(μm

探测器偏压

V

应用类型

50

12

6

高分辨率型

300 ± 30

50-70

α/β能谱测量

100

14

8

高分辨率型

300 ± 30

50-70

α/β能谱测量

300

16

14

高分辨率型

300 ± 30

50-70

α/β能谱测量

450

20

15

高分辨率型

400 +/- 30

50-70

α/β能谱测量

450

25

17

镀层型

400 +/- 30

50-70

空气放射性监测

600

25

23

高分辨率型

400 +/- 30

50-70

α/β能谱测量

600

30

20

镀层型

400 +/- 30

24-48

空气放射性监测

900

30

20

高分辨率型

400 +/- 30

50-70

α/β能谱测量

900

35

23

镀层型

400 +/- 30

50-70

空气放射性监测

1200

35

30

高分辨率型

400 +/- 30

50-70

α/β能谱测量

1200

38

33

镀层型

400 +/- 30

50-70

α/β能谱测量

*成型时间:≤1μs

*以上为常用标准规格,可按用户需求提供其他更大探测面积的规格定制。



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